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张应叙 先生
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发布时间:2020-10-17 11:36:46
经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻:一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过***制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
胶片上被极亮度光线照射的区域,在显影时。其上几乎所有的卤化银晶体都将转化成黑色的金属银,这些区域在底片上是黑色的。
胶片上被中等亮度光线照射的区域,在显影时,其上绝大多数(并非全部)卤化银晶体将会转化成黑色的金属银,这些区域在底片上是暗***的。
胶片上被很弱光线照射的区域,在显影时,其上只有少量卤化银晶体转化成黑色的金属银,这些区域在底片上是浅***的。
显影液液温应控制在一定范围内,如果显影液温度低,显影液化学活性降低,溶解感光胶层能力下降,显影不充分,
图文部分的网点百分率比正常的扩大,并且空白部分起脏。 显影液温度过高也会使已***的图文部分溶解,网点还原性变差,同时造成耐印力降低。
比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响,显影时间不足,非图像部分的感光层不能彻底溶解,会引起版面起脏。
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